6일 하이닉스에 따르면 이 회사는 올해 D램과 낸드플래시 투자 비중을 대략 6:4 정도로 가져갈 계획이다.
이는 그동안 D램에 비해 낸드플래시에서 경쟁력이 상대적으로 약했던 하이닉스 입장에서 보면 낸드 사업 강화 의지로 해석될 수 있는 대목이다.
하이닉스 관계자는 이에 대해 "올해 R&D와 후공정 투자를 제외한 순수 증설 투자만 놓고 봤을 때 D램과 낸드플래시 투자 비중은 대략 6:4 정도가 될 것"이라고 설명했다.
이 관계자는 또한 "올해 총 투자액인 2조3000억원 가운데 7000억원을 낸드플래시에 투자할 예정"이라며 "나머지는 D램 증설을 비롯해 연구개발(R&D)과 반도체 후공정 투자에 할애할 계획"이라고 말했다.
한편 낸드플래시 전용 청주공장은 7000억원의 현금 투자 유치 외에도 이천 공장으로부터 3000억원 가량의 장비 이전등을 확보하게 됨으로써 총 1조원의 투자 유치 효과를 누리게 됐다.












