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'SK하이닉스 반도체기술 유출' 업체측 "공동개발, 영업비밀 침해아냐"

SK하이닉스·삼성전자 자회사 기술 中 유출 혐의
"고유기술 침해 아니다"…첫 재판서 공소사실 부인

  • 기사입력 : 2021년03월12일 15:57
  • 최종수정 : 2021년03월12일 15:57
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[서울=뉴스핌] 이성화 기자 = SK하이닉스와 삼성전자 자회사의 핵심기술을 중국 반도체 경쟁업체에 유출한 혐의로 재판에 넘겨진 반도체 장비업체 임직원들이 첫 재판에서 고유기술을 침해한 것이 아니라며 공소사실을 부인했다.

서울중앙지법 형사합의25-3부(박사랑 권성수 박정제 부장판사)는 12일 산업기술의 유출방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의로 재판에 넘겨진 A사 부사장과 연구소장 등 임직원 9명과 A사 법인에 대한 1차 공판기일을 열었다.

반도체 칩 [사진=뉴스핌 DB]

A사 측 변호인은 "피고인들은 SK하이닉스 관련 공소사실을 부인한다"며 "영업비밀이나 산업기술에 해당하는지 다투고 있고 피고인들이 부정한 이익을 얻거나 SK하이닉스에 손해를 가할 목적, 고유기술을 침해한다는 인식이 없었다"고 말했다.

이어 "문제되는 (반도체) 세정장비는 A사가 단독으로 개발·제조한 뒤 SK하이닉스의 양산을 위해 공동개발 계약을 체결해 일부 설정을 수정한 것"이라며 "세정장비 관련 기술정보와 세정 레시피는 A사의 단독 소유이거나 SK하이닉스와 공동보유한 것이므로 고유기술 침해가 아니다"라고 주장했다.

다만 삼성전자 자회사인 반도체 장비업체 세메스의 영업비밀을 취득·사용했다는 부분에 대해서는 "피고인들마다 공소사실 인정 여부가 갈리고 있다"며 당시 압수수색 과정의 위법성과 증거능력을 다투겠다고 했다.

재판부는 이들에 앞서 같은 혐의로 기소된 A사 공장장 등 공범사건과 병합할지 여부에 대해서는 양측 의견을 서면으로 확인한 뒤 결정하기로 했다.

검찰에 따르면 이들은 2018년 8월부터 2020년 6월 사이 SK하이닉스의 HKMG 반도체 제조 기술 및 반도체 세정 레시피 등 반도체 관련 국가핵심기술, 첨단기술, 영업비밀 등을 중국 반도체업체에 누설한 혐의를 받는다.

HKMG(High-K Metal Gate) 기술은 D램 반도체의 성능을 향상시키기 위해 전도율이 높은 신소재를 사용한 최신 반도체 제조 공정 기술을 말한다.

또 2017년 3월부터 2020년 8월까지 세메스가 세계 최초로 개발한 초임계 세정장비 도면 등 반도체 관련 기술과 영업비밀을 삼성전자와 세메스 전 직원으로부터 취득해 자신들의 수출용 반도체 장비 개발에 사용한 혐의도 있다.

서울중앙지검 영업비밀유출·정보통신범죄전담부(조상원 부장검사)는 국가정보원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 반도체 관련 핵심기술이 중국 반도체업체에 유출된 정황이 있다는 정보를 제공받고 지난해 7월 수사에 착수, 같은 해 12월~지난 1월 관련자들을 차례로 재판에 넘겼다.

이들에 대한 다음 재판은 내달 9일 오후 2시에 열린다.

shl22@newspim.com

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