[서울=뉴스핌] 이지용 기자 = 최근 일본의 캐논이 2나노급 공정의 반도체까지 생산할 수 있는 장비를 출시하면서, 중국 반도체 기업들이 미국의 대(對) 중국 장비 규제를 피해 초미세공정 반도체 개발에 나설 수 있다는 전망이 제기된다. 삼성전자 등 국내 반도체 기업들에 기술 위협이 될 가능성을 배제할 수 없다.

1일 관련 업계에 따르면 블룸버그와 일본 현지 언론들은 캐논이 이달 '나노임프린트 리소그래프(NIL) 기술을 활용한 반도체 제조장비 'FPA-1200NZ2C'를 출시했다고 전했다. NIL 기술은 실리콘 웨이퍼 위에 도포된 레지스트에 스탬프를 찍어 반도체 회로 패턴을 형성하는 것이다. 캐논은 미세한 회로 패턴을 웨이퍼에 재현할 수 있는 등 기술의 특성상 이 장비로 2나노급 공정의 반도체까지 생산할 수 있다고 밝혔다.

캐논이 이 같이 첨단 반도체 제조를 위한 장비를 내놓으면서, 첨단 반도체 제조에 열을 올리고 있는 중국 기업들이 미국의 규제로 활용하지 못하고 있는 ASML의 초미세공정 장비를 대체할 가능성이 제기된다.

현재 7나노미터(1nm·10억분의 1m) 이상의 초미세공정을 통한 첨단 반도체를 생산하려면 네덜란드 반도체 장비 제조기업 ASML의 극자외선(EUV) 노광장비가 필수적이다. ASML이 EUV 노광장비를 독점 생산하고 있으며 삼성전자와 SK하이닉스도 ASML로부터 장비를 공급받고 있다.

네덜란드는 미국의 대 중국 반도체 장비 수출 규제에 따라 지난 2019년 중국에 EUV 노광장비 수출을 제한했다. 지난 1월에는 미국 정부와 협의한 끝에 심자외선(DUV) 노광장비까지 수출 규제 대상에 포함했다. 하지만 캐논의 FPA-1200NZ2C는 미국의 대 중국 수출 규제 대상에 포함되지 않은 상태인 탓에 중국 기업들이 언제든 이 제조장비를 수입해 활용할 가능성이 있다.

중국 기업들은 최근 미국의 반도체 수출 규제를 피해 첨단 반도체 생산에 본격적으로 나서고 있기 때문이다. 중국의 SMIC는 지난 8월 출시한 화웨이의 신형 스마트폰 메이트 60 프로에 7나노 공정의 칩을 탑재했다. SMIC가 ASML의 DUV 구형 모델을 개조해 생산한 것으로 알려졌다.

게다가 중국 정부가 첨단 반도체 생산에 대규모 지원을 하고 있는 만큼 중국 기업들이 초미세공정 장비 도입에 적극적으로 나설 가능성이 크다. 이미 중국 기업 SMEE가 중국 최초로 28나노 노광장비 개발에 성공, 연말 출시를 앞두고 있는 것으로 전해진다.

이에 업계에서는 중국 기업들이 미국 수출 규제를 받지 않는 타 장비 제조기업들의 신기술과 장비를 활용하면, 장기적인 관점에서 삼성전자 등 국내 기업들에 위협이 될 것이라는 우려를 내놓고 있다.

한 업계 관계자는 "현재 중국의 기조를 감안하면 초미세공정에 도움이 되는 장비를 적극 활용할 것이며 삼성전자 등의 2나노, 3나노 초미세공정을 최대한 빨리 따라잡기 위해 기술 개발 시기를 앞당길 수 있다"고 말했다.

김용석 반도체공학회 부회장(성균관대 전자전기공학부 교수)은 "캐논의 장비 기술력이 어느 정도까지 올라왔는지 우선 지켜봐야 할 것"이라며 "SMIC가 7나노 공정에 DUV 노광장비를 썼다는 것이 정설인 만큼 만약 중국 기업들이 캐논의 새 장비를 활용하게 된다면 충분히 위협적일 것"이라고 설명했다.

다만, 미국 정부가 일본 정부와 제휴해 대 중국 수출 규제에 캐논의 장비를 추가할 것이라는 예측도 나온다. 안슐 굽타 가트너 수석 분석가는 "캐논의 기술이 충분한 견고성과 성숙도를 가지게 되면 미국이 중국 판매를 금지할 것으로 본다"고 말했다.

김 부회장도 "최근 화웨이 스마트폰의 7나노 탑재 건으로 인해 미국 정부가 대 중국 규제를 위해 마음 먹었을 것"이라며 "향후에는 캐논의 장비를 규제에 포함할 것으로 보인다"고 했다.

leeiy5222@newspim.com