[뉴스핌=송주오 기자] 삼성전자는 중국 시안에 위치한 반도체 공장이 지난 27일부터 시범가동에 들어갔다고 31일 밝혔다. 본격적인 양산체제 가동은 내년 상반기로 예정돼 있다.
시안 반도체 공장은 초기에는 300mm 웨이퍼 기준으로 월 7만장 정도를 생산할 계획이다. 생산이 본 궤도에 오르면 월 10만장 수준까지 늘어난다.
V낸드는 기존 제품보다 쓰기 속도는 2배 이상 빨라지고 쓰기 횟수는 제품별로 2배~10배 이상으로 향상돼 우수하다는 평을 받고 있다. 소비전력 역시 절반으로 줄였다.
앞서 삼성전자는 지난해 9월 중국 시안에 반도체 공장 기공식을 진행하면서 V낸드가 아닌 10nm급 낸드플래시를 생산하겠다고 밝힌 바 있다.
하지만 10나노급 메모리 생산에 들어가는 비용보다 V낸드 메모리가 향후 투자비용을 줄일 수 있다는 판단에 따라 이번 시범가동이 이루어진 것으로 풀이된다.
[뉴스핌 Newspim] 송주오 기자 (juoh85@newspim.com)












