[뉴스핌=우수연 기자] 테스는 반도체 장비에 적용되는 기판처리방법과 관련한 특허권을 취득했다고 2일 공시했다.
회사 측은 이번 특허 기술을 통해 "공정시간과 기판의 회전속도가 가변되더라도, 기판의 회전속도를 제어하여 기판의 전체 영역에서 균일한 공정처리가 이루어질 수 있는 효과를 얻을 수 있다"고 밝혔다.
[뉴스핌 Newspim] 우수연 기자 (yesim@newspim.com)
[뉴스핌=우수연 기자] 테스는 반도체 장비에 적용되는 기판처리방법과 관련한 특허권을 취득했다고 2일 공시했다.
회사 측은 이번 특허 기술을 통해 "공정시간과 기판의 회전속도가 가변되더라도, 기판의 회전속도를 제어하여 기판의 전체 영역에서 균일한 공정처리가 이루어질 수 있는 효과를 얻을 수 있다"고 밝혔다.
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