[뉴스핌=정연주 기자] 테스는 반도체 소자의 갭필 방법에 대한 특허권을 취득했다고 14일 공시했다.
회사 측은 "공정원료 가스에 산소를 포함시키는 경우나 오버행 현상에 의해 갭 패턴에 보이드(void)가 생성되는 것을 감소시킬 수 있다"며 "이를 적용해 제품경쟁력을 강화시킬 것"이라고 말했다.
[뉴스핌 Newspim] 정연주 기자 (jyj8@newspim.com)
[뉴스핌=정연주 기자] 테스는 반도체 소자의 갭필 방법에 대한 특허권을 취득했다고 14일 공시했다.
회사 측은 "공정원료 가스에 산소를 포함시키는 경우나 오버행 현상에 의해 갭 패턴에 보이드(void)가 생성되는 것을 감소시킬 수 있다"며 "이를 적용해 제품경쟁력을 강화시킬 것"이라고 말했다.
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