[뉴스핌=황세준 기자] 삼성전자는 24일 컨퍼런스콜을 통해 2018년초 시스템LSI 반도체를 7나노 공정으로 생산한다는 목표로 추진 중이며 (미세공정을 위한) EUV(극자외선 노광장비)도 사용할 예정이라고 밝혔다.
회사측은 "EUV의 장점을 극대화해 성능 측면에서 경쟁력을 확보할 것"이라고 설명했다.
[뉴스핌 Newspim] 황세준 기자 (hsj@newspim.com)
[뉴스핌=황세준 기자] 삼성전자는 24일 컨퍼런스콜을 통해 2018년초 시스템LSI 반도체를 7나노 공정으로 생산한다는 목표로 추진 중이며 (미세공정을 위한) EUV(극자외선 노광장비)도 사용할 예정이라고 밝혔다.
회사측은 "EUV의 장점을 극대화해 성능 측면에서 경쟁력을 확보할 것"이라고 설명했다.
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