[뉴스핌=김민정 기자] 에스앤에스텍은 대면적 투과제어 블랭크마스크 및 이를 이용한 대면적 투과제어 포토마스크의 제조방법에 대한 특허권을 취득했다고 5일 공시했다.
회사 측은 "본 특허기술은 대면적 TM 블랭크 마스크 및 포토 마스크 제품에 대한 기술경쟁력 향상 및 회사의 새로운 성장동력이 될 것"이라고 설명했다.
[뉴스핌 Newspim] 김민정 기자 (mj72284@newspim.com)
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회사 측은 "본 특허기술은 대면적 TM 블랭크 마스크 및 포토 마스크 제품에 대한 기술경쟁력 향상 및 회사의 새로운 성장동력이 될 것"이라고 설명했다.
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