[뉴스핌=김선엽 기자] 테스는 실리콘 산화막의 건식 식각 방법 특허를 취득했다고 8일 공시했다.
회사는 "본 특허에 의하면 기판 위에 형성된 실리콘 산화막을 매우 빠른 속도로 식각하는 것이 가능해지며 공정 시간이 단축돼 식각 비용을 절감할 수 있다"고 설명했다.
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[뉴스핌 Newspim] 김선엽 기자 (sunup@newspim.com)












