[뉴스핌=서영준 기자] 에스앤에스텍은 하프톤형 위상반전 블랭크 마스크, 하프톤형 위상반전 포토 마스크 및 그의 제조 방법 관련 특허권은 취득했다고 31일 공시했다.
회사 측은 "반도체 제조용 블랭크 마스크 제품의 기술경쟁력을 향상시킬 예정"이라고 밝혔다.
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[뉴스핌 Newspim] 서영준 기자 (wind0901@newspim.com)












