이번 장비는 기존 기존 주력제품인 LPCVD와는 달리 저온공정이 가능해 차세대 반도체 공정을 타깃으로 하고 있다. 특히 기존 외국산 제품이 공정별 각기 다른 장비를 썼다면 이번 장비는 두 개 공정의 호환이 가능하다. 또 차지하는 면적이 타사 장비에 비해 40% 정도 작고 가격면에서 30%정도의 투자비용을 절감할 수 있다.
이번 장비는 지난 6월 국내 반도체메이커 3사인 동부하이텍, 삼성전자, 하이닉스 등이 참여한 지식경제부 주관 국책과제인 양산공정 수행평가에서 인증서를 획득함으로써 그 기술력을 검증받았다.
현재 이 장비는 이미 하이닉스반도체에는 50나노급 차세대 DRAM 공정에 양산장비로 납품되었고 지난 19일 삼성전자 연구소에 공정개발용으로 이번 장비가 적용되어 내년 삼성 차세대 DRAM 및 NAND Flash 메모리 공정에도 사용될 가능성을 열었다.
엄평용 대표이사는 "독자적 기술력으로 개발한 플라즈마 장비가 소자업체에 본격적으로 납품되면 내년 매출 성장에 큰 기여를 할 것"이라고 설명했다.












