주성엔지니어링은 '확산기를 구비한 CVD 장비'에 관한 특허를 취득했다고 24일 밝혔다.
이번 특허는 CVD(chemical vapor deposition) 장비에 관한 것으로 반응공간에 미세입자가 형성되거나, 플라즈마 공정시 플라즈마 전극에서 아크가 발생하는 것을 방지하기 위하여 부도체로 이루어진 확산기(diffuser)를 구비한 CVD장비이다.
주성엔지니어링은 '확산기를 구비한 CVD 장비'에 관한 특허를 취득했다고 24일 밝혔다.
이번 특허는 CVD(chemical vapor deposition) 장비에 관한 것으로 반응공간에 미세입자가 형성되거나, 플라즈마 공정시 플라즈마 전극에서 아크가 발생하는 것을 방지하기 위하여 부도체로 이루어진 확산기(diffuser)를 구비한 CVD장비이다.
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