[뉴스핌=유혜진 기자] 테스는 기판 처리 장치 관련 특허를 취득했다고 3일 공시를 통해 밝혔다.
회사 측은 “이번 특허로 반응 챔버에서 반응 가스의 배기가 가능해 공정 균일도를 향상시키게 됐다”며 “향후 특허는 제품경쟁력 강화에 활용할 계획” 이라고 설명했다.
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[뉴스핌 Newspim] 유혜진 기자 (beutyfuld@newspim.com)
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