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WSJ "美 당국, 화웨이 추가 기술탈취 혐의 조사 중"

  • 기사입력 : 2019년08월30일 06:48
  • 최종수정 : 2019년08월30일 06:48
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[시드니=뉴스핌] 권지언 특파원 = 미국이 중국 통신장비업체 화웨이의 또 다른 기술탈취 혐의를 들여다보고 있다고 29일(현지시각) 월스트리트저널(WSJ)이 소식통을 인용해 보도했다.

소식통은 화웨이가 지난 몇 년 동안 여러 사람 및 기업으로부터 지식재산을 절도한 혐의를 비롯해, 경쟁업체로부터 인재를 빼돌린 혐의 등에 대해 조사를 받고 있다고 전했다.

중국 통신장비업체 화웨이의 로고와 미국 성조기. [사진=로이터 뉴스핌]

수사를 주도하고 있는 뉴욕 브루클린의 뉴욕동부지검이 보낸 화웨이 서류 소환장 등에 따르면 미 당국의 이번 수사는 올 초 화웨이 기소건과는 별도로 진행되고 있다.

앞서 뉴욕 동부지검과 워싱턴주 대배심은 지난 1월 말 금융사기, 기술절취 등의 혐의로 화웨이와 멍완저우 화웨이 부회장을 기소한 바 있다.

미 당국이 이번에 수사 중인 혐의는 지난 5월 WSJ 조사에서도 드러났던 내용과 겹치는데, 이 중에는 포르투갈의 멀티미디어 관계자로부터 스마트폰 카메라 기술을 탈취했다는 혐의와 경쟁업체 직원 채용 등이 포함된다.

포르투갈 멀티미디어 제작자 루이 올리베이라는 화웨이가 자신의 미국 특허에 포함된 카메라 기술을 훔쳤다고 주장했는데, 지난 3월 화웨이는 특허를 침해하지 않았다면서 올리베이라를 고소했다.

이후 지난 6월 초 미연방수사국(FBI) 수사관과 뉴욕 동부지검 변호사들이 올리베이라를 면담하고 지난 2014년 올리베이라와 화웨이 임원진 간 회동 등에 대해 조사한 것으로 알려졌다.

미 당국은 2002년부터 2003년까지 화웨이 스웨덴지부에서 근무했던 엔지니어 로버트 리드도 인터뷰했는데, 그는 당시 에릭슨에서 해고된 직원들을 화웨이가 채용하도록 도왔던 인물이다.

매체는 이번 수사가 화웨이의 추가 기소로 이어질지는 명확하지 않지만, 화웨이에 대한 미국의 압박이 거세질 것으로 내다봤다.

 

kwonjiun@newspim.com

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