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국일그래핀, 국제학회서 '최고발표상' 수상…"그래핀 기술 우수성 입증"

저온 무전사 직접 대면적 단층 그래핀 합성 발표…"우수성 인정받아"
그래핀 응용 확장 연구 지속…8월 EMN서 그래핀 활용 반도체 특성 발표

  • 기사입력 : 2019년07월16일 14:36
  • 최종수정 : 2019년07월16일 14:36
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[서울=뉴스핌] 정경환 기자 = 국일그래핀이 국제학술대회에서 연이은 성과를 보이며 기술력을 입증하고 있다.

국일제지는 자회사 국일그래핀 윤순길 사외이사가 최근 태국 방콕에서 개최된 국제 그래핀 및 나노물질 학회(GNN)에서 최고 발표상(Best Presentation Award)을 수상했다고 16일 밝혔다. 윤순길 사외이사는 지난 8일 열린 이 학회에서 저온 무전사 직접 대면적 단층 그래핀 합성법을 발표했다.

앞서 윤순길 사외이사는 지난 6월 개최된 '국제재료학회(CCMR)' 국제 학술대회에서 뜻밖의 발견상(Serendipity Award) 1등을 수상했다. 그래핀 기술로 국제 학술대회에서 최근 두 차례 상을 받으며 그 우수성을 인정받은 것이다.

회사 관계자는 "국일그래핀이 성공시킨 티탄 버퍼층으로 물이 끓는 온도의 저온에서 무전사 직접 박막 합성법을 가능하게 했다"며 "실리콘 웨이퍼 및 플렉시블 투명 필름(PET)에 만든 박막 그래핀의 품질 우수성을 국내외에 알린 계기가 됐다"고 전했다.

그래핀 응용 확장을 위해 전도성 개선 및 반도체 활성을 위한 다층 구조의 그래핀 박막 성장에 대한 연구도 지속적으로 진행 중이다. 국일그래핀은 오는 8월 스페인 바로셀로나에서 대대적으로 열리는 2019 국제 에너지, 물질, 나노기술 학회(EMN)에서 공개할 예정이다. 윤순길 사외이사가 기조연설자(Keynote talk)로 나서 국일그래핀의 우수한 박막 그래핀을 활용한 반도체 특성에 대한 내용을 발표한다.

한편 국일그래핀은 이러한 기술 성과를 바탕으로 대면적 그래핀 합성을 위한 양산화 설비와 분석 장비를 조속히 도입에 하기 위해 현재 다각도로 검토하고 있는 것으로 알려졌다

 

hoan@newspim.com

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